Q&Aのページ

良く頂くご質問

Q-1:イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリングの違いはなんですか?

A-1

イオンプレーティング真空蒸着はほぼ同じ原理です。
真空蒸着は真空中で膜にしたい材料を蒸発(あるいは昇華)させ、その蒸気を基板に当てて膜をつける方式です。
イオンプレーティングはその蒸気に+(プラス)の電荷を帯びさせ、また基板に-(マイナス)の電荷を印加し、基板へ+(プラス)電荷の蒸気を引き寄せることにより密着性の良い膜を作る方式です。
スパッタリングは、真空中で膜にしたい材料にアルゴンイオンをぶつけることによりはじき出てきた材料を基板に当てて膜をつける方式です。

詳しくは"PVD(物理的蒸着法)各種の原理"をご参照下さい

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Q-2:コーティング可能な膜種はなんですか?

A-2

金属膜、酸化膜、炭化膜、窒化膜の全般と、一部合金膜や2元蒸着による合金膜も対応させていただいております。未経験膜種についても挑戦させていただいておりますのでご相談ください。

詳しくは"コーティングの種類"をご参照下さい

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Q-3:コーティングする相手材のサイズや形状に制限はありますか?

A-3

基板は装置の中で空中に保持(固定)することが可能なものであれば、Φ1mm以下の小型サイズから、Φ500mm×L500mmの立体物や800mm×1000mmの平版などの大型サイズ、樹脂フィルムなど、幅広いサイズや形状にコーティングが可能です。保持が難しそうだなとお考えの基板でも、当社には保持に関する豊富な経験があります。また、段差部の断面や穴形状の内部なども保持方法などにより成膜可能な場合もありますので一度御相談下さい。

詳しくは"コーティング例"をご参照下さい

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Q-4:コーティングする相手材の材質に制限はありますか?

A-4

制限は設けておりませんので、金属、セラミックス、樹脂、複合材など各種に対応させていただいております。ただ、膜種や膜厚などによりコーティング時の温度が変動いたしますので、基板の耐熱温度によっては、難しいコーティング仕様もございます。代替膜種や温度を抑える方法もありますので、一度ご相談下さい。

詳しくは"コーティングの対象物"をご参照下さい

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Q-5:値段は基板1つあたりの単価で計算されるのですか?

A-5

値段は「1回の処理(1パッチ)でいくらになるか」という計算をしています。相手材が小さくセッティングに時間がかかるなどの事由を除けば、基本的には、装置に一度に10個の基板を入れることが出来たとしても、1個のときと値段はほぼ同じです。

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Q-6:どのくらいまで量産が可能ですか?

A-6

基板のサイズや膜種・膜厚により可能数量が変動しますので一度ご相談下さい。

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Q-7:納期はどれくらいかかりますか?

A-7

通常は基板を送付していただいてから約2週間程度お待ちいただいています。例えば、まだ先ではあるが、基板のご支度日が決まっている場合、ご支度日近辺で予め装置を予約しておくことも出来ます。
※加工上、専用治具の製作が必要な場合は、治具製作に約二週間程度かかります。治具完成にあわせてコーティングを計画し、全体で約3週間程度お待ちいただいております。
短納期を目指していますのでご希望納期がある場合は営業担当までご相談ください。

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P(プラズマ)-CVDやスパッタリングでコーティング可能な膜種は何ですか?

A-8

P-CVDではDLC,SiO2,SiON膜種に限定して対応しております。スパッタではTi,TiC,TiNに限定して対応しております。

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P-CVDやスパッタリングで対応可能な最大サイズはどのくらいですか?

A-9

最大直径300mmサイズまでコーティング可能です。

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その他、薄膜処理に関してご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。

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