Q&A

よく頂くご質問をまとめてあります。回答の詳細や、新たなご質問につきましては、下記お問い合わせをご利用下さい。

技術について

イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリングの違いはなんですか？

真空蒸着は真空中で膜にしたい材料を蒸発（あるいは昇華）させ、その粒子を基板に当てて膜をつける方式です。
イオンプレーティングはその蒸気に＋（プラス）の電荷を帯びさせ、また基板に－（マイナス）の電荷を印加し、基板へ＋（プラス）電荷の蒸気を引き寄せることにより密着性の良い膜を作る方式です。
スパッタリングは、真空中で膜にしたい材料にアルゴンイオンをぶつけることによりはじき出てきた材料を基板に当てて膜をつける方式です。
詳しくは技術紹介をご参照ください。

コーティング可能な膜種はなんですか？

金属膜、酸化膜、炭化膜、窒化膜の全般、２元蒸着による合金膜、それらの積層膜も対応させていただいております。未経験の膜種についても積極的にトライしておりますのでご相談ください。
詳しくは東邦化研のサービスをご参照下さい。

コーティングする対象物のサイズや形状に制限はありますか？

基板は装置の中で空中に保持（固定）することが可能なものであれば、Φ１ｍｍ以下の小型サイズから、Φ５００ｍｍ×Ｌ５００ｍｍの立体物や８００ｍｍ×１０００ｍｍの平板などの大型サイズ、樹脂フィルムなど、幅広いサイズや形状にコーティングが可能です。保持が難しそうな基板でも、当社には保持に関する豊富な経験があります。また、段差部の断面や穴形状の内部なども保持方法などにより成膜可能な場合もありますので一度御相談下さい。

コーティングする対象物の材質に制限はありますか？

制限は設けておりません。金属、セラミックス、樹脂、複合材など各種に対応しております。ただ、膜種や膜厚などによりコーティング時の温度が変動いたしますので、基板の耐熱温度によっては、難しい内容もございます。代替膜種や温度を抑える方法もありますので、一度ご相談下さい。

プラズマCVDやスパッタリングでコーティング可能な膜種は何ですか？

プラズマCVDではDLC,SiO2,SiN,SiCに対応しております。また、スパッタリングではTi,TiC,TiNに対応しております。

受託について

値段は基板１つあたりの単価で計算されるのですか？

値段は「１回の処理（１バッチ）でいくらになるか」という計算をしています。基板が小さくセッティングに時間がかかるなどの事由を除けば、基本的には、装置に一度に１０個の基板を入れることが出来たとしても、１個のときと値段は大きな差はありません。

どのくらいまで量産が可能ですか？

基板のサイズや膜種・膜厚により可能数量が変動しますので一度ご相談下さい。

納期はどれくらいかかりますか？

通常は基板を送付いただいてから約２週間となります。例えば、基板のご支給日が決まっている場合は、ご支給日近辺で予め装置を予約しておくことも出来ます。

• 加工上、専用治具の製作が必要な場合は、治具製作に別途2週間程度かかります。治具完成にあわせてコーティングを計画し、全体で約３週間お待ちいただいております。ご希望納期がある場合は営業担当までお気軽にご相談ください。

プラズマCVDやスパッタリングで対応可能な最大サイズはどのくらいですか？

最大直径300mmサイズまでコーティング可能です。

その他、薄膜処理に関してご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。