イオンプレーティング

イオンプレーティング法は、真空蒸着法とほぼ同じ原理です。
異なるところは、蒸発粒子がプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、基板にマイナスの電荷を印加して蒸発粒子を引き付けて堆積させ膜を形成するところです。
これにより真空蒸着法に比べ、より密着性の強い膜を作ることが出来ます。