真空蒸着

真空蒸着法は、真空中で膜にしたい材料を蒸発させ、その蒸気が基板（膜をつけたい対象物や箇所）に到達して堆積することで膜を形成する方法です。
蒸発材料や基板に電気的に印加させることもなく、気化した材料がそのまま基板に到達するため、基板へのダメージが少なく、純度の高い膜が形成できます。